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專利資訊
真空電弧氣相沉積方法及裝置
日新電機股份有限公司
申請案號
091134753
公告號
200303370
申請日期
2002-11-29
申請人
日新電機股份有限公司
發明人
村上泰夫
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C14/24
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