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在濺鍍膜之均平度優異之磁控濺鍍用高純度鎳或鎳合金靶及其製造方法

JX金屬股份有限公司

申請案號
091135263
公告號
200302289
申請日期
2002-12-05
申請人
JX金屬股份有限公司
發明人
山越康廣
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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在濺鍍膜之均平度優異之磁控濺鍍用高純度鎳或鎳合金靶及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通