IP

膜形成裝置和膜形成方法和清潔方法

半導體能源研究所股份有限公司

申請案號
091136004
公告號
200303574
申請日期
2002-12-12
申請人
半導體能源研究所股份有限公司
發明人
山崎舜平
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/20
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

膜形成裝置和膜形成方法和清潔方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通