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多重反應模式之混成負型光阻劑組成物及形成光阻圖樣之方法

財團法人工業技術研究院

申請案號
091136684
公告號
200411328
申請日期
2002-12-19
申請人
財團法人工業技術研究院
發明人
宋清潭
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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多重反應模式之混成負型光阻劑組成物及形成光阻圖樣之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通