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使用Ｆ２植入之窄寬ＰＭＯＳ中負偏壓溫度不安定性之降低

英飛凌科技股份有限公司

申請案號
092100820
公告號
200302580
申請日期
2003-01-15
申請人
英飛凌科技股份有限公司
發明人
林權
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L29/78
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使用Ｆ２植入之窄寬ＰＭＯＳ中負偏壓溫度不安定性之降低 - 專利資訊 | NowTo 智財通