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專利資訊
在基材上製造高密度次黃光微影構形的方法
惠普公司
申請案號
092101014
公告號
200305784
申請日期
2003-01-17
申請人
惠普公司
發明人
湯瑪斯 C 安東尼
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G03F7/20
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