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專利資訊
成膜方法、成膜裝置、圖案形成方法及半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
申請案號
092101966
公告號
200306460
申請日期
2003-01-29
申請人
東芝股份有限公司
發明人
伊藤信一
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G03F7/16
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