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專利資訊
在至少一基板上沉積多成份半導體薄膜之方法
愛斯特隆公司
申請案號
092103637
公告號
200305657
申請日期
2003-02-21
申請人
愛斯特隆公司
發明人
霍爾格 喬根森
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C30B25/14
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