IP

在至少一基板上沉積多成份半導體薄膜之方法

愛斯特隆公司

申請案號
092103637
公告號
200305657
申請日期
2003-02-21
申請人
愛斯特隆公司
發明人
霍爾格 喬根森
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

在至少一基板上沉積多成份半導體薄膜之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通