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一種用於CVD反應器內以外延方式塗覆半導體晶圓正面反應中避免晶圓摻質擴散的方法及裝置

瓦克矽電子公司

申請案號
092105524
公告號
200303944
申請日期
2003-03-13
申請人
瓦克矽電子公司
發明人
維爾弗里德 安孟
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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一種用於CVD反應器內以外延方式塗覆半導體晶圓正面反應中避免晶圓摻質擴散的方法及裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通