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提供具有可控制密度分佈之帶狀射束之離子源

艾克塞利斯科技公司

申請案號
092110121
公告號
200405388
申請日期
2003-04-30
申請人
艾克塞利斯科技公司
發明人
維多 本文尼斯特
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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