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可製造具有不同尺寸之晶粒之MOS閘裝置之表面幾何圖形和其製法

通用半導體股份有限公司

申請案號
092112471
公告號
200403730
申請日期
2003-05-07
申請人
通用半導體股份有限公司
發明人
理查 布蘭查
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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可製造具有不同尺寸之晶粒之MOS閘裝置之表面幾何圖形和其製法 - 專利資訊 | NowTo 智財通