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製造銦-錫氧化粉或半導體氧化粉之方法,由其獲得之氧化粉,及以其製成之濺鍍靶

W C 希瑞思公司

申請案號
092112827
公告號
200424120
申請日期
2003-05-12
申請人
W C 希瑞思公司
發明人
班納德P 瑟洛爾
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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製造銦-錫氧化粉或半導體氧化粉之方法,由其獲得之氧化粉,及以其製成之濺鍍靶 - 專利資訊 | NowTo 智財通