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次微米解析度光學同調斷層攝影技術

財團法人工業技術研究院

申請案號
092114694
公告號
200426397
申請日期
2003-05-30
申請人
財團法人工業技術研究院
發明人
孫啟光
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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次微米解析度光學同調斷層攝影技術 - 專利資訊 | NowTo 智財通