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專利資訊
半導體顯影設備之晶圓清洗裝置及其操作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
申請案號
092115504
公告號
200428507
申請日期
2003-06-09
申請人
台灣積體電路製造股份有限公司
發明人
高耀寰
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/304
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