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包含具有自組裝單層之光學元件之極紫外光微影投射裝置,具有自組裝單層之光學元件,應用自組裝單層之方法,裝置製作方法及其製作之裝置

ASML荷蘭公司

申請案號
092115987
公告號
200410050
申請日期
2003-06-12
申請人
ASML荷蘭公司
發明人
羅夫 刻特
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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包含具有自組裝單層之光學元件之極紫外光微影投射裝置,具有自組裝單層之光學元件,應用自組裝單層之方法,裝置製作方法及其製作之裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通