IP

具有應變膜之絕緣層上矽裝置及用於形成應變膜之方法

格羅方德半導體公司

申請案號
092116498
公告號
200400564
申請日期
2003-06-18
申請人
格羅方德半導體公司
發明人
維多Ｐ　瑪沙拉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/3213
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。