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專利資訊
半導體製程參數之非侵入式量測與分析用之方法與設備
東京威力科創股份有限公司
申請案號
092118067
公告號
200409262
申請日期
2003-07-02
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
理查 帕森斯
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/66
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