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基於氮化物之電晶體,及使用非蝕刻接觸凹處以製造該電晶體之方法

美商沃孚半導體有限公司

申請案號
092119400
公告號
200415800
申請日期
2003-07-16
申請人
美商沃孚半導體有限公司
發明人
亞當 威廉 撒克拉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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基於氮化物之電晶體,及使用非蝕刻接觸凹處以製造該電晶體之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通