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專利資訊
銅濺射標靶及形成銅濺射標靶之方法
哈尼威爾國際公司
申請案號
092119421
公告號
200415247
申請日期
2003-07-16
申請人
哈尼威爾國際公司
發明人
維萊德米爾 塞格
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C14/34
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