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處理PVD標靶結構之非濺射區域以形成顆粒陷阱之方法,以及包含沿非濺射區域突出物之PVD標靶結構

哈尼威爾國際公司

申請案號
092119426
公告號
200413552
申請日期
2003-07-16
申請人
哈尼威爾國際公司
發明人
杰易恩 金
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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處理PVD標靶結構之非濺射區域以形成顆粒陷阱之方法,以及包含沿非濺射區域突出物之PVD標靶結構 - 專利資訊 | NowTo 智財通