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低溫矽化物形成材料及自其形成之濺鍍靶

哈尼威爾國際公司

申請案號
092121499
公告號
200407443
申請日期
2003-08-06
申請人
哈尼威爾國際公司
發明人
麥克E 湯瑪斯
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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低溫矽化物形成材料及自其形成之濺鍍靶 - 專利資訊 | NowTo 智財通