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反射器組合體,微影投影裝置,具有反射器組合體之輻射系統,以及藉由一微影處理製造一積體結構之方法

ASML荷蘭公司

申請案號
092122268
公告號
200424782
申請日期
2003-08-13
申請人
ASML荷蘭公司
發明人
里維納絲 派特 貝克
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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反射器組合體,微影投影裝置,具有反射器組合體之輻射系統,以及藉由一微影處理製造一積體結構之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通