IP

使用氮氣殘餘氣體形成混合相壓縮鉭薄膜的方法、薄膜及包含此薄膜之流體噴射裝置

惠普研發公司

申請案號
092122589
公告號
200422195
申請日期
2003-08-18
申請人
惠普研發公司
發明人
亞傑吉 法塔斯
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

使用氮氣殘餘氣體形成混合相壓縮鉭薄膜的方法、薄膜及包含此薄膜之流體噴射裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通