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具有低雙折射率、高穿透率及高溶劑耐蝕性之光學塗佈層合物及其製造方法

財團法人工業技術研究院

申請案號
092123390
公告號
200508646
申請日期
2003-08-26
申請人
財團法人工業技術研究院
發明人
張年喜
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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具有低雙折射率、高穿透率及高溶劑耐蝕性之光學塗佈層合物及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通