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專利資訊
圖案形成用放射性敏感負型光阻劑組成物及圖案形成方法
東洋合成工業股份有限公司
申請案號
092123906
公告號
200405126
申請日期
2003-08-29
申請人
東洋合成工業股份有限公司
發明人
坂井信支
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G03F7/004
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