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專利資訊
減低氮化鈦光學層對裂紋之感受性
首諾新加坡私人有限公司
申請案號
092125888
公告號
200415380
申請日期
2003-09-19
申請人
首諾新加坡私人有限公司
發明人
佛洛伊德伍達
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G02B5/28
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減低氮化鈦光學層對裂紋之感受性 - 專利資訊 | NowTo 智財通