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使用高融點金屬氧化物或矽氧化物之罩層的超解析度近埸結構的高密度記錄媒體

三星電子股份有限公司

申請案號
092126300
公告號
200405326
申請日期
2003-09-24
申請人
三星電子股份有限公司
發明人
金朱鎬
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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使用高融點金屬氧化物或矽氧化物之罩層的超解析度近埸結構的高密度記錄媒體 - 專利資訊 | NowTo 智財通