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利用間隔物蝕刻障壁膜之ＣＭＯＳ影像感測器的製造方法

ＡＳＭＬ荷蘭公司

申請案號
092126469
公告號
200411915
申請日期
2003-09-25
申請人
ＡＳＭＬ荷蘭公司
發明人
李柱日
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L27/14
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利用間隔物蝕刻障壁膜之ＣＭＯＳ影像感測器的製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通