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專利資訊
使用臭氧清潔半導體晶圓表面的設備及方法
諾伐研究股份有限公司
申請案號
092129901
公告號
200500152
申請日期
2003-10-28
申請人
諾伐研究股份有限公司
發明人
金容倍
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
B08B7/04
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