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高分子化合物、含該高分子化合物之光阻組成物及溶解抑制劑

東京應化工業股份有限公司

申請案號
092130281
公告號
200419309
申請日期
2003-10-30
申請人
東京應化工業股份有限公司
發明人
緒方壽幸
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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高分子化合物、含該高分子化合物之光阻組成物及溶解抑制劑 - 專利資訊 | NowTo 智財通