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用於高級微電子應用及裝置之平面化膜及其製造方法

哈尼威爾國際公司

申請案號
092130707
公告號
200503890
申請日期
2003-11-03
申請人
哈尼威爾國際公司
發明人
黃偉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於高級微電子應用及裝置之平面化膜及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通