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用於在高壓處理期間處理半導體晶圓的處理室

東京威力科創股份有限公司

申請案號
092130960
公告號
200416111
申請日期
2003-11-05
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
湯馬士　沙頓
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

B25B11/00
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