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專利資訊
用於真空管處理二度空間延伸的基板之設備以及用於製造此基板之方法
恩艾克西斯巴爾斯股份有限公司
申請案號
092131975
公告號
200414297
申請日期
2003-11-14
申請人
恩艾克西斯巴爾斯股份有限公司
發明人
萊納歐斯特曼
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/02
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