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專利資訊
洗淨劑組成物,半導體晶圓之洗淨方法,製造方法及半導體晶圓
昭和電工股份有限公司
申請案號
092132169
公告號
200414340
申請日期
2003-11-17
申請人
昭和電工股份有限公司
發明人
雨宮正博
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/304
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