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矽化鎳層的形成方法、鎳合金自動對準矽化金屬電晶體結構以及其製造方法

三星電子股份有限公司

申請案號
092132871
公告號
200501234
申請日期
2003-11-24
申請人
三星電子股份有限公司
發明人
具滋欽
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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矽化鎳層的形成方法、鎳合金自動對準矽化金屬電晶體結構以及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通