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專利資訊
形成電路用下層膜形成材料,包埋材料,及使用其之電路形成方法
東京應化工業股份有限公司
申請案號
092133232
公告號
200416482
申請日期
2003-11-26
申請人
東京應化工業股份有限公司
發明人
中村悅子
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G03F7/004
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