IP

製造ＬＣＤ用正型光阻組成物及光阻圖型之形成方法

東京應化工業股份有限公司

申請案號
092134214
公告號
200417817
申請日期
2003-12-04
申請人
東京應化工業股份有限公司
發明人
片野彰
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

G03F7/022
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

製造ＬＣＤ用正型光阻組成物及光阻圖型之形成方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通