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在溝槽中均勻填入光阻層的方法及形成具有均勻一致之溝槽電容之下電極的方法

茂德科技股份有限公司

申請案號
092134534
公告號
200520066
申請日期
2003-12-08
申請人
茂德科技股份有限公司
發明人
楊登峻
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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在溝槽中均勻填入光阻層的方法及形成具有均勻一致之溝槽電容之下電極的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通