IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
低介電常數材料以及化學氣相沈積(CVD)製備方法
氣體產品及化學品股份公司
申請案號
092134625
公告號
200409738
申請日期
2003-12-08
申請人
氣體產品及化學品股份公司
發明人
馬克 李納德 歐尼爾
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C03C3/062
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
低介電常數材料以及化學氣相沈積(CVD)製備方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通