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專利資訊
高純度鎳/釩濺射成份及製備噴濺成份之方法
哈尼威爾國際公司
申請案號
092134690
公告號
200418996
申請日期
2003-12-09
申請人
哈尼威爾國際公司
發明人
郭偉
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C22C19/03
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