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採用具有碳層之透射遮罩以在晶圓上圖樣化光阻之方法

恩智浦美國公司

申請案號
092135798
公告號
200502704
申請日期
2003-12-17
申請人
恩智浦美國公司
發明人
詹姆士R 瓦森
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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採用具有碳層之透射遮罩以在晶圓上圖樣化光阻之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通