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軟化學機械平面化／拋光（ＣＭＰ）用拋光墊的鑽石修整

英特爾股份有限公司

申請案號
092136019
公告號
200418612
申請日期
2003-12-18
申請人
英特爾股份有限公司
發明人
菲力普　史拉特斯蓋
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

B24B53/00
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軟化學機械平面化／拋光（ＣＭＰ）用拋光墊的鑽石修整 - 專利資訊 | NowTo 智財通