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荷電粒子曝光方法,使用於彼之互補分割光罩,及使用該方法製造的半導體裝置

立普路股份有限公司

申請案號
092137703
公告號
200422788
申請日期
2003-12-31
申請人
立普路股份有限公司
發明人
野末寬
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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荷電粒子曝光方法,使用於彼之互補分割光罩,及使用該方法製造的半導體裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通