IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
薄膜電容元件用組合物、高介電率絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜層積電容器、以及薄膜電容元件之製造方法(二)
TDK股份有限公司
申請案號
093101332
公告號
200503018
申請日期
2004-01-19
申請人
TDK股份有限公司
發明人
宮本雪
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01G4/40
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
薄膜電容元件用組合物、高介電率絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜層積電容器、以及薄膜電容元件之製造方法(二) - 專利資訊 | NowTo 智財通