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薄膜電容元件用組合物、高介電率絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜層積電容器、以及薄膜電容元件之製造方法(二)

TDK股份有限公司

申請案號
093101332
公告號
200503018
申請日期
2004-01-19
申請人
TDK股份有限公司
發明人
宮本雪
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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薄膜電容元件用組合物、高介電率絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜層積電容器、以及薄膜電容元件之製造方法(二) - 專利資訊 | NowTo 智財通