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薄膜電容元件用組合物、高介電率絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜層積電容器、以及薄膜電容元件之製造方法(一)
TDK股份有限公司
申請案號
093101334
公告號
200416758
申請日期
2004-01-19
申請人
TDK股份有限公司
發明人
坂下幸雄
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01G4/40
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