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專利資訊
利用一塗層在高壓加工期間使半導體基底被加強固持之方法及裝置
東京威力科創股份有限公司
申請案號
093102820
公告號
200415742
申請日期
2004-02-06
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
亞拉塞 薛戴伊
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/68
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