IP

用以控制穿透差排密度之具有圖案之應變鬆弛矽鍺磊晶層之製作方法

財團法人工業技術研究院

申請案號
093102861
公告號
200527543
申請日期
2004-02-06
申請人
財團法人工業技術研究院
發明人
曾揚玳
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

用以控制穿透差排密度之具有圖案之應變鬆弛矽鍺磊晶層之製作方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通