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用於產製高折射率光學層之氣相沈積材料

麥克專利有限公司

申請案號
093103644
公告號
200500480
申請日期
2004-02-16
申請人
麥克專利有限公司
發明人
馬丁 佛瑞茲
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於產製高折射率光學層之氣相沈積材料 - 專利資訊 | NowTo 智財通