IP

用於高階奈米電子元件製造中具有改良特性之超低K值電漿化學氣相沉積奈米管/旋塗介電質

應用材料股份有限公司

申請案號
093104672
公告號
200419620
申請日期
2004-02-24
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
尚樊蓋葉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

用於高階奈米電子元件製造中具有改良特性之超低K值電漿化學氣相沉積奈米管/旋塗介電質 - 專利資訊 | NowTo 智財通