IP

利用超臨界二氧化碳法自半導體去除ＣＭＰ與ＣＭＰ後的殘餘物

東京威力科創股份有限公司

申請案號
093107947
公告號
200507121
申請日期
2004-03-24
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
威廉　莫利
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/463
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

利用超臨界二氧化碳法自半導體去除ＣＭＰ與ＣＭＰ後的殘餘物 - 專利資訊 | NowTo 智財通